MCVD:改性化学气相沉积
改性化学气相沉积(Modified Chemical Vapor Deposition,简称MCVD)是一种在化学与材料科学领域广泛使用的技术。该方法通过气相反应在基底表面沉积薄膜材料,具备工艺可控、成膜均匀等优点。为便于书写和交流,在学术文献和专业场景中常直接使用其英文缩写MCVD。
Modified Chemical Vapor Deposition具体释义
Modified Chemical Vapor Deposition的英文发音
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