PPID:等离子体过程诱导损伤国际研讨会

“International Symposium on Plasma Process-Induced Damage”这一国际学术会议名称,在半导体和微电子工艺研究领域具有重要影响力。为方便书写与交流,业界通常将其缩写为PPID。该会议旨在探讨等离子体工艺过程中可能引发的材料损伤问题,其中文全称为“等离子体过程诱导损伤国际研讨会”,是相关科研人员交流最新技术进展的重要平台。

International Symposium on Plasma Process-Induced Damage具体释义

  • 英文缩写:PPID
  • 英语全称:International Symposium on Plasma Process-Induced Damage
  • 中文意思:等离子体过程诱导损伤国际研讨会
  • 中文拼音:děng lí zǐ tǐ guò chéng yòu dǎo sǔn shāng guó jì yán tǎo huì
  • 相关领域ppid 会议

International Symposium on Plasma Process-Induced Damage的英文发音