PPID:等离子体过程诱导损伤国际研讨会
“International Symposium on Plasma Process-Induced Damage”这一国际学术会议名称,在半导体和微电子工艺研究领域具有重要影响力。为方便书写与交流,业界通常将其缩写为PPID。该会议旨在探讨等离子体工艺过程中可能引发的材料损伤问题,其中文全称为“等离子体过程诱导损伤国际研讨会”,是相关科研人员交流最新技术进展的重要平台。
International Symposium on Plasma Process-Induced Damage具体释义
International Symposium on Plasma Process-Induced Damage的英文发音
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