APVD:高级等离子体和气相沉积

“高级等离子体和气相沉积”(Advanced Plasma And Vapor Deposition,简称APVD)是一种在材料科学与工程中广泛应用的技术。为便于快速书写和交流,该术语常缩写为APVD,尤其常见于跨学科领域的文献和技术资料中,涵盖多种材料表面处理和薄膜制备的应用场景。

Advanced Plasma And Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写:APVD
  • 英语全称:Advanced Plasma And Vapor Deposition
  • 中文意思:高级等离子体和气相沉积
  • 中文拼音:gāo jí děng lí zǐ tǐ hé qì xiāng chén jī
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Advanced Plasma And Vapor Deposition的英文发音