PLD:脉冲激光沉积
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,常缩写为PLD)是一种利用脉冲激光束轰击材料表面、实现薄膜沉积的先进技术。该缩写形式便于书写与交流,常见于材料科学、物理学及工程应用等多个综合领域。作为一种通用性强的工艺,PLD在新型功能材料制备和表面改性研究中具有重要价值。
Pulsed Laser Deposition具体释义
Pulsed Laser Deposition的英文发音
例句
- Microstructure and Surface Morphology of LiCoO_2 Thin Film Grown under Different Temperature by Pulsed Laser Deposition(PLD)
- 不同温度下脉冲激光沉积(PLD)LiCoO2薄膜的微观结构和表面形貌
- Effect of Laser Energy on the Properties of ZnO Films by Pulsed Laser Deposition(PLD) Method
- 激光能量对脉冲激光沉积(PLD)法制备ZnO薄膜性能的影响
- Study of VO_2 Thermochromic Thin Films Fabricated by Pulsed Laser Deposition(PLD)
- 脉冲激光沉积(PLD)法制备VO2热致变色薄膜研究进展
- A Study on Pulsed Laser Deposition(PLD) of Diamond-like Carbon Films
- 脉冲激光沉积(PLD)法制备类金刚石薄膜的研究
- Dynamic model of plasma expansion in nanosecond pulsed laser deposition
- 纳秒脉冲激光沉积(PLD)中等离子体膨胀的动力学模型
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