APSM：交替移相掩模

“交替移相掩模”在技术文献与专业交流中常缩写为APSM，便于快捷书写和使用。这一术语多见于半导体制造、光学工程及光刻技术等综合性领域，尤其在掩模设计与先进制程工艺中应用广泛。其核心原理是通过相位调控提升成像分辨率，属于未明确细分的基础技术类别。

Alternating Phase Shifting Mask具体释义

  • 英文缩写：APSM
  • 英语全称：Alternating Phase Shifting Mask
  • 中文意思：交替移相掩模
  • 中文拼音：jiāo tì yí xiāng yǎn mó
  • 相关领域： apsm 未分类的

Alternating Phase Shifting Mask的英文发音

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