BEEM:弹道电子发射显微镜
“弹道电子发射显微镜”(Ballistic Electron Emission Microscopy,简称BEEM)是一种在物理学及相关前沿科学领域广泛应用的先进表征技术。该缩写形式“BEEM”被普遍采纳于学术交流与专业文献中,以便在确保科学严谨性的前提下,实现书写与沟通的高效便捷。它主要用于研究材料界面处的电子输运特性,为纳米尺度下的物理现象提供关键的观测手段。
Ballistic Electron Emission Microscopy具体释义
Ballistic Electron Emission Microscopy的英文发音
例句
- The local barrier heights of the CoSi 2 / Si contacts are determined by using the ballistic electron emission microscopy ( BEEM ) and its spectroscopy ( BEES ) at low temperature.
- 在低温下,用弹道电子显微术(BEEM)及其谱线(BEES)测量了CoSi2/Si接触的局域肖特基势垒高度。
- Ultra-Thin Metal-Silicide / Si Schottky Contacts Studied by Ballistic Electron Emission Microscopy(BEEM)
- 用弹道电子发射显微术研究超薄金属硅化物/硅肖特基接触
- Two methods used in the microanalysis of semiconductor interfaces, Ballistic Electron Emission Microscopy(BEEM) ( BEEM ) and Scanning Internal Photoemission Microscopy ( SIPM ), are described.
- 介绍了可以在微观级对半导体界面的电学性质进行评价的两种新技术及其应用。
- The Au / n-Si ( 100 ) interface system has been studied by the ballistic electron emission microscopy ( BEEM ). The barrier heights at different positions of the interface and interface images have been directly obtained with nanometer-scale resolution.
- 用弹道电子发射显微镜(BEEM)对Au/n-Si(100)界面势垒测试,直接得出定点的势垒特性和纳米尺度的界面图象。
- Experimental Technology Ballistic Electron Emission Microscopy(BEEM) and its Applications
- 弹道电子发射显微术及其应用
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