HCVD：氢化物化学气相沉积

氢化物化学气相沉积（Hydride Chemical Vapour Deposition，简称HCVD）是一种广泛应用于化学及材料科学领域的关键技术。该术语在学术研究和专业文献中常采用英文缩写HCVD，以简化书写与交流流程。这一工艺主要用于制备高纯度薄膜材料，在半导体、光伏及功能材料研发中具有重要作用。

Hydride Chemical Vapour Deposition具体释义

  • 英文缩写：HCVD
  • 英语全称：Hydride Chemical Vapour Deposition
  • 中文意思：氢化物化学气相沉积
  • 中文拼音：qīng huà wù huà xué qì xiāng chén jī
  • 相关领域： hcvd 化学

Hydride Chemical Vapour Deposition的英文发音

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