MERIE：磁增强反应离子刻蚀

“磁增强反应离子刻蚀”（Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching，简称MERIE）是一种广泛应用于半导体制造和微电子加工领域的先进刻蚀技术。它通过在反应离子刻蚀工艺中引入磁场，显著提高了等离子体密度和刻蚀速率，从而提升了工艺的效率和精度。该技术尤其适用于对刻蚀均匀性和各向异性要求较高的精细图形加工场景。

Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching具体释义

  • 英文缩写：MERIE
  • 英语全称：Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching
  • 中文意思：磁增强反应离子刻蚀
  • 中文拼音：cí zēng qiáng fǎn yìng lí zǐ kè shí
  • 相关领域： merie 电子

Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching的英文发音

例句

  1. Study on Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching(MERIE) of BST Thin Films
  2. BST薄膜的磁增强反应离子刻蚀(MERIE)研究
  3. Experimental Research of Higher Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching(MERIE)
  4. 强磁场增强反应离子腐蚀实验研究
  5. The experimental results of higher magnetically enhanced reactive ion etching, including load effects and dependence of etch rate on magnetical hield for various materials are described.
  6. 介绍强磁场增强反应离子腐蚀实验的研究结果，其中包括不同材料的腐蚀速度与磁场的关系以及负载效应等。

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