CVD：化学气相沉积

化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，常缩写为CVD）是一种广泛应用于半导体制造、材料科学等电子相关领域的先进工艺技术。该术语的缩写形式CVD便于在学术文献和工程应用中快速书写与交流。其核心原理是通过气态前驱体在基底表面发生化学反应，从而沉积出高质量固体薄膜材料。

Chemical Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：CVD
  • 英语全称：Chemical Vapor Deposition
  • 中文意思：化学气相沉积
  • 中文拼音：
  • 相关领域： cvd 电子

Chemical Vapor Deposition的英文发音

例句

  1. 为 快速 沉积 高品质 金刚石 膜 ， 建立 了 热 阴极 等离子体 化学 气 相 沉积 方法 。
  2. Hotcathodechemicalvapordepositionmethodwasestablishedinordertodeposithigh-qualitydiamondfilmswithhighdepositionrate.
  3. 在 本文 中 ， 简要 介绍 了 低压 化学 气 相 沉积 金刚石 薄膜 的 合成 技术 及 高 取向 生长 ， 并 对 存在 的 一些 问题 进行 了 分析 和 讨 。
  4. Thedepositiontechnologiesandthehighorientedgrowthofdiamondfilmsbychemicalvapordepositionarereviewedinthispaper.
  5. 利用 金属 有机 气 相 淀积 方法 生长 了 一 种 新型 吸收体 ： 高 反射率 半导体 可 饱和 吸收 镜 。
  6. Anovelhighreflectivitytypeofsemiconductorsaturableabsorptionmirrorgrownbymetalorganicchemicalvapordepositionispresented.
  7. 介绍 了 等离子体 化学 工艺 ， 特别 着重 介绍 了 溅射 镀膜 与 等离子体 化学 气 相 沉积 在 粉末 冶金 中 的 应用 。
  8. Thisarticleintroducesprocessingofplasmachemistryandapplicationofsputtercoatingandplasma-enhancedchemicalvapordepositioninpowdermetallurgyespecially.
  9. 所 用 的 碳 纳米管 是 用 热 灯丝 化学 气 相 沉积 法 合成 的 。
  10. Carbonnanotubesinexperimentsweresynthesizedbyhotfilamentchemicalvapordeposition.

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