VPSF:真空等离子喷涂成形
真空等离子喷涂成形(Vacuum Plasma Spray Forming,简称VPSF)是为了方便书写和交流而普遍采用的缩写形式,常见于电子材料、涂层技术等学术与工程领域。作为一种先进的热喷涂工艺,它在真空环境下利用等离子弧将材料熔化并高速喷涂至基体表面,能够有效提升涂层的致密性和结合强度。
Vacuum Plasma Spray Forming具体释义
Vacuum Plasma Spray Forming的英文发音
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