LPVD：激光物理气相沉积

激光物理气相沉积（LPVD）是一种广泛应用于材料科学与工业制造领域的薄膜制备技术。该缩写形式“LPVD”在学术文献和技术交流中被频繁使用，旨在简化书写并提升沟通效率。这一术语常见于跨学科研究及未分类的技术文档中，其核心工艺通过激光能量使材料汽化并在基底表面沉积成膜。

Laser Physical Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：LPVD
  • 英语全称：Laser Physical Vapor Deposition
  • 中文意思：激光物理气相沉积
  • 中文拼音：jī guāng wù lǐ qì xiāng chén jī
  • 相关领域： lpvd 未分类的

Laser Physical Vapor Deposition的英文发音

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