APVD：阿尔卡特等离子体气相沉积

“阿尔卡特等离子体气相沉积”（Alcatel Plasma Vapor Deposition，简称APVD）是电子与材料科学领域的一项关键技术，主要用于半导体制造、薄膜制备等精密工艺过程。该缩写形式APVD在学术文献及技术交流中广泛使用，不仅便于书写和传播，也有助于提升专业沟通的效率。

Alcatel Plasma Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：APVD
  • 英语全称：Alcatel Plasma Vapor Deposition
  • 中文意思：阿尔卡特等离子体气相沉积
  • 中文拼音：ā ěr kǎ tè děng lí zǐ tǐ qì xiāng chén jī
  • 相关领域： apvd 电子

Alcatel Plasma Vapor Deposition的英文发音

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