LPCVD：低压化学蒸汽

低压化学气相沉积（Low Pressure Chemical Vapor Deposition，简称LPCVD）是化学与材料科学领域中广泛使用的一种技术。该缩写形式便于学术交流与文献撰写，有效简化专业术语的表达，同时保持其科学严谨性。其全称对应的中文为“低压化学蒸汽”，常用于描述在低压环境下通过气相化学反应制备薄膜材料的工艺方法。

Low Pressure Chemical Vapor具体释义

  • 英文缩写：LPCVD
  • 英语全称：Low Pressure Chemical Vapor
  • 中文意思：低压化学蒸汽
  • 中文拼音：dī yā huà xué zhēng qì
  • 相关领域： lpcvd 化学

Low Pressure Chemical Vapor的英文发音

例句

  1. Synthesis of Carbon Nanotubes by Low Pressure Chemical Vapor(LPCVD) Deposition and Their Applications
  2. 碳纳米管的低压化学气相沉积法制备及其应用研究
  3. Nano-sized silicon films with large area were prepared by normal Low Pressure Chemical Vapor(LPCVD) Deposition method.
  4. 利用普通低压化学气相沉积技术在玻璃衬底上制备了大面积的纳米硅薄膜。
  5. The Model and Simulation of Low Pressure Chemical Vapor(LPCVD) Deposition
  6. 低压化学气相沉积模型与模拟
  7. In this paper CNT film was deposited on metal substrate by low temperature and low pressure chemical vapor deposition ( CVD ). Field emission cathode was made by thin-film and thick-film process.
  8. 本文采用低温低压化学气相沉积（CVD）方法在金属衬底上直接生长碳纳米管薄膜，并分别运用薄膜和厚膜工艺，制作场发射阴极。
  9. Acetylene Flow Rate Effect on Morphology and Structure of Carbon Nanotube Thick Films by Low Pressure Chemical Vapor(LPCVD) Deposition
  10. 碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响

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