IVD：离子气相沉积

离子气相沉积（Ion Vapor Deposition，常缩写为IVD）是一种材料表面处理技术，广泛用于化学和材料科学领域。该术语为便于书写和学术交流，常采用其英文缩写形式，指在真空条件下利用离子化气相物质在基材表面沉积薄膜的过程，具有成膜均匀、附着力强等特点。

Ion Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：IVD
  • 英语全称：Ion Vapor Deposition
  • 中文意思：离子气相沉积
  • 中文拼音：lí zǐ qì xiāng chén jī
  • 相关领域： ivd 化学

Ion Vapor Deposition的英文发音

例句

  1. Strengthening effect and acting mechanics of RE elements were mainly studied in diffusing implantation, ion infiltration and vapor deposition.
  2. 扩散渗入中，稀土元素主要起到催渗和微合金化的作用；
  3. DLC films were deposited at 120 ℃ using ion beam implantation assisted vapor deposition of mineral oil.
  4. 采用碳离子束注入辅助蒸发矿物油的方法在120℃低温沉积了DLC薄膜；
  5. Phosphine ( PH3 ) is an important electronic specific gas which is mainly used in fields of N-type semiconductor doping, ion implement and chemical vapor deposition ( CVD ) etc.
  6. 磷化氢（PH3）是一种重要的电子特气，主要用于n型半导体的掺杂、离子注入和化学气相沉积（CVD）等。
  7. Progress in Preparation of Thin Film Electrodes for Lithium Ion Batteries by Physical Vapor Deposition
  8. 物理气相沉积制备锂离子电池正极薄膜研究进展
  9. The various preparation methods of a-C : H thin films, including plasma deposition, ion beam deposition, sputtering and chemical vapor deposition, were described in detail in this paper.
  10. 本文详细介绍了a-C∶H薄膜的各种制备方法，包括等离子体淀积法、离子束法、溅射法和化学汽相淀积法等，给出了某些典型的实验条件。

本站英语缩略词为个人收集整理，可供非商业用途的复制、使用及分享，但严禁任何形式的采集或批量盗用

若IVD词条信息存在错误、不当之处或涉及侵权，请及时联系我们处理：675289112@qq.com。