LTCVD：低温化学气相沉积

低温化学气相沉积（Low-Temperature Chemical Vapor Deposition，常缩写作LTCVD）是一种应用于电子制造与材料科学领域的先进工艺技术。该缩写形式便于书写和交流，尤其在学术论文和技术文档中使用频繁。该方法在较低温度下实现材料的气相沉积，有助于提高器件性能并降低热预算，广泛应用于半导体、薄膜制备和纳米技术等前沿方向。

Low-Temperature Chemical Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：LTCVD
  • 英语全称：Low-Temperature Chemical Vapor Deposition
  • 中文意思：低温化学气相沉积
  • 中文拼音：dī wēn huà xué qì xiāng chén jī
  • 相关领域： ltcvd 电子

Low-Temperature Chemical Vapor Deposition的英文发音

例句

  1. Low-temperature polycrystalline Si films were fabricated by radio frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition using SiH_4, Ar and H_2 as source gas.
  2. 以SiH4，Ar和H2为反应气体，采用射频等离子体化学气相沉积方法在300℃下制备了低温多晶Si薄膜。

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