RESSFOX:凹进密封侧壁场氧化

在电子与半导体技术领域,“REcessed Sealed Sidewall Field OXidation”是一个专业术语,常用于描述集成电路制造中的特定氧化工艺。该术语的中文名称是“凹进密封侧壁场氧化”。为便于书写和交流,学术界和工程中通常将其缩写为“RESSFOX”。这一工艺在器件隔离和介质层形成中具有重要应用,是实现高性能微电子器件的关键技术之一。

REcessed Sealed Sidewall Field OXidation具体释义

  • 英文缩写:RESSFOX
  • 英语全称:REcessed Sealed Sidewall Field OXidation
  • 中文意思:凹进密封侧壁场氧化
  • 中文拼音:āo jìn mì fēng cè bì chǎng yǎng huà
  • 相关领域ressfox 电子

REcessed Sealed Sidewall Field OXidation的英文发音