RESSFOX:凹进密封侧壁场氧化
在电子与半导体技术领域,“REcessed Sealed Sidewall Field OXidation”是一个专业术语,常用于描述集成电路制造中的特定氧化工艺。该术语的中文名称是“凹进密封侧壁场氧化”。为便于书写和交流,学术界和工程中通常将其缩写为“RESSFOX”。这一工艺在器件隔离和介质层形成中具有重要应用,是实现高性能微电子器件的关键技术之一。
REcessed Sealed Sidewall Field OXidation具体释义
REcessed Sealed Sidewall Field OXidation的英文发音
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