PVD：压力蒸汽沉积
“Pressure Vapor Deposit”在化学和材料科学等学术领域中，通常缩写为PVD，以方便书写和引用。该技术的中文名称为“压力蒸汽沉积”，是一种用于表面改性和薄膜制备的常用工艺方法，广泛应用于涂层和功能材料的研究与生产中。
Pressure Vapor Deposit具体释义
Pressure Vapor Deposit的英文发音
例句
- It analyzes the growth model of GaN film grown by low pressure metal organic vapor deposit ( LP MOCVD ) with self designed reactor using static boundary layer theory.
- 用停滞边界层理论分析了低压MOCVD外延GaN的生长模型。
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