RTA:快速热退火

快速热退火(Rapid Thermal Anneal,简称RTA)是一种在半导体与微电子工艺中广泛采用的热处理技术,通过瞬时升温和快速冷却来优化材料性能。该术语在学术及工程领域常缩写为RTA,既便于书写交流,又能有效提升专业文献和技术文档的表达效率。

Rapid Thermal Anneal具体释义

  • 英文缩写:RTA
  • 英语全称:Rapid Thermal Anneal
  • 中文意思:快速热退火
  • 中文拼音:kuài sù rè tuì huǒ
  • 相关领域rta 电子

Rapid Thermal Anneal的英文发音