RTA:快速热退火
快速热退火(Rapid Thermal Anneal,简称RTA)是一种在半导体与微电子工艺中广泛采用的热处理技术,通过瞬时升温和快速冷却来优化材料性能。该术语在学术及工程领域常缩写为RTA,既便于书写交流,又能有效提升专业文献和技术文档的表达效率。
Rapid Thermal Anneal具体释义
Rapid Thermal Anneal的英文发音
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