MIS：金属绝缘体半导体

“金属-绝缘体-半导体”（Metal-Insulator-Semiconductor，常缩写为MIS）是一种在电子学和半导体物理中广泛使用的基础结构。这种结构由金属层、绝缘层和半导体层依次堆叠构成，是场效应晶体管和多种传感器件的关键组成部分。采用MIS缩写不仅便于学术文献、技术文档中的简洁表达，也有助于在相关领域高效沟通和研究讨论。

Metal Insulator Semiconductor具体释义

  • 英文缩写：MIS
  • 英语全称：Metal Insulator Semiconductor
  • 中文意思：金属绝缘体半导体
  • 中文拼音：jīn shǔ jué yuán tǐ bàn dǎo tǐ
  • 相关领域： mis 电子

Metal Insulator Semiconductor的英文发音

例句

  1. Thermal nitridation metal insulator semiconductor
  2. 热氮化式金属绝缘体半导体(MIS)结构
  3. Complementary metal insulator semiconductor
  4. 互补型金属绝缘体半导体(MIS)结构
  5. The dielectric and interface characteristics of STO with a metal insulator semiconductor ( MIS ) structure were investigated.
  6. 研究了STO薄膜金属绝缘体半导体(MIS)（MIS）结构的介电和界面特性。
  7. Its structure is the same as a conventional metal insulator semiconductor field effect transistor ( MISFET ).
  8. 它的结构与普通金属绝缘体半导体(MIS)场效应晶体管（MISFET）基本相同。
  9. In order to improve the performance of the metal ferroelectric insulator semiconductor ( MFIS ) device, SBT ferroelectric films with good anti fatigue property is used, and ZrO 2 film is employed as the buffer layer to overcome the charge injection effect.
  10. 制备MFIS存储器的铁电薄膜一般选用抗疲劳特性好的SBT铁电薄膜，介质层一般选用ZrO2作为阻挡层，以克服电荷注入效应，改进器件的性能。

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