RCVD：反应性化学气相沉积

“反应性化学气相沉积”是一种先进的材料制备技术，在化学和材料科学领域应用广泛。该技术常用英文术语“Reactive Chemical Vapor Deposition”表示，为便于交流与书写，常缩写为RCVD。其核心原理是在气相条件下，通过化学反应在基底表面沉积出高质量的功能薄膜或涂层。这一方法因其可控性强、沉积效率高而备受研究者青睐，在半导体、纳米技术和功能材料开发中发挥着关键作用。

Reactive Chemical Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：RCVD
  • 英语全称：Reactive Chemical Vapor Deposition
  • 中文意思：反应性化学气相沉积
  • 中文拼音：fǎn yìng xìng huà xué qì xiāng chén jī
  • 相关领域： rcvd 化学

Reactive Chemical Vapor Deposition的英文发音

例句

  1. Many processes are used to prepare transparent conductive films, such as magnetron sputtering, vacuum reactive evaporation, chemical vapor depositions, Sol-gel, laser-pulsed deposition.
  2. 多种工艺可以用来制备透明导电薄膜，如磁控溅射真空反应蒸发、化学气相沉积、溶胶-凝胶法以及脉冲激光沉积等。

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