PLAD：脉冲激光烧蚀沉积

脉冲激光烧蚀沉积（Pulsed Laser Ablation Deposition，简称PLAD）是一种常见的材料制备技术，广泛用于薄膜合成、纳米材料研究等综合性领域。其缩写形式PLAD便于书写和使用，能有效提高学术交流与文献引用的效率。这一技术通过高能脉冲激光轰击靶材，实现材料的精确沉积与可控生长。

Pulsed Laser Ablation Deposition具体释义

  • 英文缩写：PLAD
  • 英语全称：Pulsed Laser Ablation Deposition
  • 中文意思：脉冲激光烧蚀沉积
  • 中文拼音：mài chōng jī guāng shāo shí chén jī
  • 相关领域： plad 未分类的

Pulsed Laser Ablation Deposition的英文发音

例句

  1. Zinc oxide thin films have been grown on quartz substrates by pulsed laser ablation of a ZnO target in O2 ambient at a pressure of 1.3 Pa at different deposition temperature.
  2. 通过脉冲激光沉积方法在1.3Pa氧氛围，石英衬底上制备了ZnO薄膜。

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