OMCVD:有机金属化学气相沉积
有机金属化学气相沉积(Organometallic Chemical Vapor Deposition,简称OMCVD)是一种常见于科研机构与军事技术领域的重要材料制备技术。其名称较长,为便于书写与日常使用,通常采用缩写OMCVD。该技术通过气态前驱体在衬底表面发生化学反应,实现薄膜材料的精确沉积,广泛应用于半导体、光电器件及先进材料研发中。
Organometallic Chemical Vapor Deposition具体释义
Organometallic Chemical Vapor Deposition的英文发音
例句
- 原位 化学 气 相 沉积 法制 备 碳 纳米管 增强 金属 基 复合 材料
- ChemistryoforganometalliccompoundCarbonnanotubereinforcedmetalmatrixcompositesfabricatedbyin-situchemicalvapordeposition
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