GILD：气体浸没激光掺杂

气体浸没激光掺杂（Gas Immersion Laser Doping，简称GILD）是一种广泛应用于半导体与微电子领域的先进掺杂工艺技术。该技术通过激光辅助与气体环境相结合的方式，实现对材料表面的精确掺杂处理。其英文名称在学术文献和技术文档中常缩写为GILD，以方便书写和交流，尤其在涉及集成电路制造和材料科学的研究中频繁出现。

Gas Immersion Laser Doping具体释义

  • 英文缩写：GILD
  • 英语全称：Gas Immersion Laser Doping
  • 中文意思：气体浸没激光掺杂
  • 中文拼音：qì tǐ jìn mò jī guāng chān zá
  • 相关领域： gild 电子

Gas Immersion Laser Doping的英文发音

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