APCVD：大气压化学气相沉积

大气压化学气相沉积（英文全称Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition，简称APCVD）是一种在标准大气压条件下进行材料沉积的化学气相沉积技术。该方法广泛应用于材料科学与化学工程领域，常用于半导体、薄膜材料及功能涂层的制备。采用APCVD作为缩写形式，便于学术交流与文献书写，既简洁又符合科研场景下的表达习惯。

Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition具体释义

  • 英文缩写：APCVD
  • 英语全称：Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition
  • 中文意思：大气压化学气相沉积
  • 中文拼音：
  • 相关领域： apcvd 化学

Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition的英文发音

例句

  1. 本文 用 常压 化学 气 相 淀积 法 （ APCVD ） 制 备 了 α － Fe2O3 薄膜 ， 对 所 制 备 的 薄膜 进行 了 X 射线 衍射 分析 和 表面 形貌 （ SEM ） 分析 。
  2. Haematite(αFe2O3)thinfilmsarepreparedbyatmosphericpressurechemicalvapourdeposition(APCVD).ThefilmsarecharacterizedbyXraydiffractionandscanningelectronmicroscopy(SEM).
  3. 常压 等离子体 增强 化学 气 相 沉积 纳米 晶 TiO 2 多孔 薄膜 的 研究
  4. StudyofPorousNanocrystallineTiO_2ThinFilmDepositedbyAtmosphericPressurePlasma-EnhancedChemicalVapourDeposition

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