PEDS：等离子体增强沉积系统

等离子体增强沉积系统（Plasma-Enhanced Deposition System，常缩写为PEDS）是一种在半导体、新材料及微电子领域广泛使用的高端工艺设备。该系统借助等离子体技术，在较低温度下实现高质量薄膜的沉积，能有效提升材料表面性能与器件可靠性。PEDS的缩写形式便于科研人员和工程师在文献撰写、技术交流中高效沟通，是电子制造与材料科学研究中不可或缺的专业术语。

Plasma-Enhanced Deposition System具体释义

  • 英文缩写：PEDS
  • 英语全称：Plasma-Enhanced Deposition System
  • 中文意思：等离子体增强沉积系统
  • 中文拼音：děng lí zǐ tǐ zēng qiáng chén jī xì tǒng
  • 相关领域： peds 电子

Plasma-Enhanced Deposition System的英文发音

例句

  1. The growth of silicon nitride films by using a diffusion furnace type plasma-enhanced chemical vapor deposition system
  2. 扩散炉型等离子化学蒸汽淀积系统生长氮化硅膜的研究
  3. We prepared a-Si : H / SiO 2 multilayer by using layer by layer deposition of a-Si : H sublayer and in-situ plasma oxidation in the plasma-enhanced chemical vapor deposition system.
  4. 在等离子体增强化学气相淀积系统中，采用aSi：H层淀积和原位等离子体氧化相结合的逐层生长技术制备了aSi：HSiO2多层膜。
  5. The reflection high-energy electron diffraction ( RHEED ) mounted in the electron-cyclotron-resonance plasma-enhanced metal organic chemical vapor deposition ( ECR-PEMOCVD ) system designed by us was used to monitor the GaN growth process in-situ.
  6. 通过在自制的电子回旋共振等离子体增强金属有机物化学气相沉积（ECR-PEMOCVD）系统上装配反射高能电子衍射仪（RHEED），对外延GaN生长过程进行原位监测。

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