RCVD：反应性化学气相沉积
“反应性化学气相沉积”（Reactive Chemical Vapour Deposition，简称RCVD）是一种广泛应用于化学及相关科研领域的重要技术。该术语常使用英文缩写RCVD，以方便在学术写作和交流中简洁表达。
Reactive chemical vapour deposition具体释义
Reactive chemical vapour deposition的英文发音
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