IBED：离子束增强沉积

离子束增强沉积（Ion Beam Enhanced Deposition，常缩写为IBED）是一种广泛应用于多学科领域的材料表面改性技术。该缩写形式简洁易用，便于学术交流和文献撰写。该工艺通过离子束辅助手段提升薄膜沉积质量，在材料科学、半导体制造等领域具有重要应用价值。

Ion Beam Enhanced Deposition具体释义

  • 英文缩写：IBED
  • 英语全称：Ion Beam Enhanced Deposition
  • 中文意思：离子束增强沉积
  • 中文拼音：lí zǐ shù zēng qiáng chén jī
  • 相关领域： ibed 未分类的

Ion Beam Enhanced Deposition的英文发音

例句

  1. Modification on the structure and characteristics of films was observed for the technology to be similar to that for ion beam enhanced deposition.
  2. 这种技术可以获得与常规束线离子束增强沉积(IBED)相近的对薄膜结构和特性的改性作用。
  3. Titanium oxide film was deposited onto the carbon-carbon composite using ion beam enhanced deposition, then subjected to alkali treatment, heat treatment in vacuum, immersion in the simulated body fluid ( SBF ) and scratch test.
  4. 采用离子束增强沉积(IBED)技术在碳/碳复合材料上制备了氧化钛膜层，并进行了碱液处理、真空热处理、模拟体液浸泡和划痕试验。
  5. Environmental Adaptability and Contact Compatibility of Ion Beam Enhanced Deposition(IBED) Films on Titanium Alloy
  6. 钛合金表面离子束增强沉积(IBED)膜层的环境适应性和接触相容性
  7. Influence of ch_4 ion beam enhanced deposition on hardness of TiC films
  8. CH4离子束增强沉积(IBED)对TiC薄膜显微硬度的影响机制
  9. In this work, the scratch test has been used to measure the adhesion of TiN films prepared by ion beam enhanced deposition.
  10. 采用划痕法测定了离子束增强沉积(IBED)TiN薄膜的界面结合力。

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