LER：线条边缘粗糙度

“线边缘粗糙度”（Line Edge Roughness，常缩写为LER）是微电子制造和纳米技术中常用的术语，用于描述图形边缘的不规则性和波动程度。该指标对器件性能有重要影响，因此在光刻工艺和材料研究中被广泛关注。使用缩写LER便于在技术文档和学术交流中简洁表达，尤其常见于半导体、光子学等跨学科领域。

Line Edge Roughness具体释义

  • 英文缩写：LER
  • 英语全称：Line Edge Roughness
  • 中文意思：线条边缘粗糙度
  • 中文拼音：xiàn tiáo biān yuán cū cāo dù
  • 相关领域： ler 未分类的

Line Edge Roughness的英文发音

例句

  1. Influence factors of line edge roughness measured by AFM
  2. 使用原子力显微镜测量刻线边缘粗糙度的影响因素
  3. Reserch on the Measurement Technology of Line Edge Roughness(LER) by AFM
  4. 基于AFM的刻线边缘粗糙度测量技术研究

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