PACVD：等离子体辅助化学气相沉积

等离子体辅助化学气相沉积（Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition，简称PACVD）是一种常用于电子与材料科学领域的先进薄膜制备技术。该技术利用等离子体增强化学气相沉积过程的效率与可控性，广泛应用于半导体器件、光学涂层等功能材料的研发与制造。在学术和工业文献中，常使用缩写PACVD以便于快速书写与交流。

Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：PACVD
  • 英语全称：Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition
  • 中文意思：等离子体辅助化学气相沉积
  • 中文拼音：děng lí zǐ tǐ fǔ zhù huà xué qì xiāng chén jī
  • 相关领域： pacvd 电子

Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition的英文发音

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