LPCVD：低压化学气相沉积

“低压化学气相沉积”是一种在半导体制造和材料科学领域广泛应用的薄膜制备技术，其英文全称为“Low pressure chemical vapour deposition”。为便于书写和交流，该术语通常被缩写为LPCVD。这种方法通过在低压环境下利用气态前驱体发生化学反应，从而在基底表面沉积出高质量、均匀的薄膜层。

Low pressure chemical vapour deposition具体释义

  • 英文缩写：LPCVD
  • 英语全称：Low pressure chemical vapour deposition
  • 中文意思：低压化学气相沉积
  • 中文拼音：dī yā huà xué qì xiāng chén jī
  • 相关领域： lpcvd 化学

Low pressure chemical vapour deposition的英文发音

例句

  1. This thesis was based on unexpensive chemic fabrication. The silica opal was fabricated by convection self-assembly methods and the silica opal was filled with silicon by low pressure chemical vapour deposition ( LPCVD ). Finally silicon inverse opal was fabricated.
  2. 本论文以低成本化学制备技术为基础，采用胶体自组装制备二氧化硅蛋白石（Opal）模板，利用低压化学气相沉积(LPCVD)填充硅制备硅反蛋白石（InverseOpal）。
  3. The Effect of Bias on Low Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition of TiO_2 Film and its Structure and Performance
  4. 偏压对低气压等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的结构和性能的影响

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