XRL：X射线光刻

X射线光刻（X-Ray Lithography，常缩写为XRL）是一种广泛用于学术与科研领域，特别是化学及微纳制造方向的技术。该缩写形式有助于在文献撰写与技术交流中实现快速书写和高效使用，是相关专业人员熟悉的专业术语。

X- Ray Lithography具体释义

  • 英文缩写：XRL
  • 英语全称：X- Ray Lithography
  • 中文意思：X射线光刻
  • 中文拼音：shè xiàn guāng kè
  • 相关领域： xrl 化学

X- Ray Lithography的英文发音

例句

  1. The principles of LIGA process on mask, X ray lithography, electroform and model were analyzed.
  2. 对LIGA工艺掩膜、X射线光刻(XRL)、电铸及塑铸等进行了工艺原理分析。
  3. The SEM photo of X ray lithography and mask was given.
  4. 给出掩膜和X射线光刻(XRL)照片。
  5. The fabrication procedure of the mask and results of the deep X ray lithography are given.
  6. 给出了该掩模设计制作工艺过程及深X射线光刻(XRL)结果。
  7. The deep synchronous radiation lithography mask is one of the key technologies in x ray lithography.
  8. 而深层同步辐射光刻掩膜技术是X射线光刻(XRL)应用的关键之一。
  9. The overlay or multi exposure in deep X ray lithography could be well solved using the mask.
  10. 采用该掩模，可进一步解决深X射线光刻(XRL)中的重复对准多次曝光问题。

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