JVD：喷射蒸汽沉积

喷射蒸汽沉积（Jet Vapor Deposition，简称JVD）是一种在材料科学和薄膜技术等领域广泛应用的工艺方法。该缩写形式“JVD”便于日常书写与专业交流，尤其适用于跨学科研究和工业应用中。其技术原理涉及通过高速气流将气态前驱体喷射至基底表面，从而实现材料的高效、均匀沉积。该工艺在半导体制造、光学镀膜及功能材料开发中具有重要价值，提升了制备过程的灵活性与可控性。

Jet Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：JVD
  • 英语全称：Jet Vapor Deposition
  • 中文意思：喷射蒸汽沉积
  • 中文拼音：pēn shè zhēng qì chén jī
  • 相关领域： jvd 未分类的

Jet Vapor Deposition的英文发音

例句

  1. The texture and microstructure of free-standing diamond films which were synthesized by DC arc plasma jet chemical vapor deposition ( CVD ) were investigated by X-ray diffractometer and scanning electron microscopy ( SEM ).
  2. 对直流电弧等离子喷射化学气相沉积法（CVD）制备的自支撑金刚石薄膜，用X射线衍射测量了薄膜宏观织构，用扫描电镜观察了薄膜显微组织。
  3. After Fe doped, the intensity of TiO2 emission peak is weakened. 3 、 The luminescent properties of free-standing diamond films prepared by DC plasma jet chemical vapor deposition technology are investigated.
  4. 对直流等离子体喷射化学气相淀积法制备的自支撑金刚石薄膜的发光性能进行了研究。

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