PIII：等离子体浸入式离子注入法

“等离子体浸入式离子注入法”（Plasma Immersion Ion Implantation，简称PIII）是一种在电子及材料科学领域广泛应用的表面处理技术。由于其全称较长，科研人员通常使用缩写“PIII”来方便书写和交流。该技术通过将工件浸入等离子体并施加高压脉冲，实现离子对材料表面的高效、均匀注入，广泛应用于半导体制造、薄膜涂层和材料改性等前沿研究中。

Plasma Immersion Ion Implantation具体释义

  • 英文缩写：PIII
  • 英语全称：Plasma Immersion Ion Implantation
  • 中文意思：等离子体浸入式离子注入法
  • 中文拼音：
  • 相关领域： piii 电子

Plasma Immersion Ion Implantation的英文发音

例句

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  8. TheLY12hornendsurfaceisstrengthenedusinghigh-energyandlow-voltageplasmaimmersionionimplantation.
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  10. Heliumionwasimplantedbyplasmaimmersionionimplantationtechnology.

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