MCVD：化学气相沉积

MCVD是“Ment Chemical Vapor Deposition”的常用缩写，广泛运用于化学及材料科学等学术科研领域。该术语的中文全称是“化学气相沉积”，该技术主要用于在基体表面通过气态前驱体反应生成固态薄膜材料。采用缩写形式能够有效提升学术写作与专业交流中的书写与表达效率。

Ment Chemical Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：MCVD
  • 英语全称：Ment Chemical Vapor Deposition
  • 中文意思：化学气相沉积
  • 中文拼音：huà xué qì xiāng chén jī
  • 相关领域： mcvd 化学

Ment Chemical Vapor Deposition的英文发音

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