MCVD：改良化学气相沉积

改良化学气相沉积（Modified Chemical Vapour Deposition，常缩写为MCVD）是一种广泛应用于化学、材料科学等学术研究领域的薄膜制备技术。该缩写形式便于快速书写与交流，尤其适用于专业文献和技术文档中。

Modified Chemical Vapour Deposition具体释义

  • 英文缩写：MCVD
  • 英语全称：Modified Chemical Vapour Deposition
  • 中文意思：改良化学气相沉积
  • 中文拼音：
  • 相关领域： mcvd 化学

Modified Chemical Vapour Deposition的英文发音

例句

  1. 采用 化学 气 相 沉积 法 ， 研究 了 五氧化二磷 对 H β 分子 筛 酸性 和 孔 结构 的 改 性 。
  2. ThestructureandtheacidicpropertiesofHβzeoliteweremodifiedwithphosphoruspentoxideaddedbyusingchemicalvapourdepositionmethod.

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