MEF：掩模误差系数

“掩模误差系数”的英文全称为“Mask Error Factor”，在计算机科学中常缩写为MEF，以方便书写和使用。这个术语主要用于程序集、芯片设计等底层开发领域，用来描述掩模制造过程中图形尺寸的误差参数，是评估制程精度和良率的重要指标之一。通过缩写形式，专业人员能够更高效地进行技术文档撰写和日常交流。

Mask Error Factor具体释义

  • 英文缩写：MEF
  • 英语全称：Mask Error Factor
  • 中文意思：掩模误差系数
  • 中文拼音：yǎn mó wù chā xì shù
  • 相关领域： mef 程序集

Mask Error Factor的英文发音

例句

  1. It not only affects process windows, i.e., exposure latitude ( EL ) and depth of focus ( DOF ), but also degrades mask error factor ( MEF ), which can introduce extra mask cost.
  2. 它不仅影响工艺窗口，即，曝光容裕度和焦深（DOF），而且也降低了掩模误差因子（MEF），这能导致附加的掩模费用。
  3. The impact of the effective resist diffusion length to the exposure latitude and MEF ( mask error factor ) for the 0.13 μ m photolithography and beyond is presented.
  4. 展示了在0.13μm及以下工艺中等效扩散对能量裕度和掩模版误差因子的影响的研究结果。

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