PSM：相移掩模

“相移掩模”（Phase Shift Mask，简称PSM）是一种常见于电子工程和半导体技术领域的专业术语。为了便于书写与交流，该术语在学术及科研文献中通常缩写为PSM。相移掩模技术主要用于提高光刻工艺的分辨率和精度，是集成电路制造中的关键工艺之一。

Phase Shift Mask具体释义

  • 英文缩写：PSM
  • 英语全称：Phase Shift Mask
  • 中文意思：相移掩模
  • 中文拼音：xiāng yí yǎn mó
  • 相关领域： psm 电子

Phase Shift Mask的英文发音

例句

  1. Therefore, a new approximation model for alternating phase shift mask considering shadowing effects was proposed in this paper, and shadowing ratio was redefined.
  2. 因此本文针对交替式相移掩模(PSM)，提出了一种考虑阴影效应的近似模型。
  3. Study on phase shift mask simulation software
  4. 相移掩模(PSM)模拟软件研究
  5. The Binary phase shift keying ( BPSK ) and Mary amplitude shift keying ( MASK ) are widely used in radar systems, their elliptic covariance do not equal zero, are noncircular signals.
  6. 二进制相移键控（BPSK）和幅度调制（MASK）等信号是雷达系统中常用的信号，这种调制信号的椭圆协方差矩阵不为零，被称为非圆信号。

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