HCVD：氢化物化学气相沉积

“氢化物化学气相沉积”是一种广泛应用于化学及材料科学领域的薄膜制备技术，其英文全称为“Hydride Chemical Vapor Deposition”。为便于学术交流与文献书写，该术语常缩写为HCVD。这项技术利用气态氢化物前驱体在特定条件下发生化学反应，从而在基底表面沉积出高质量的功能薄膜。

Hydride Chemical Vapor Deposition具体释义

  • 英文缩写：HCVD
  • 英语全称：Hydride Chemical Vapor Deposition
  • 中文意思：氢化物化学气相沉积
  • 中文拼音：qīng huà wù huà xué qì xiāng chén jī
  • 相关领域： hcvd 化学

Hydride Chemical Vapor Deposition的英文发音

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