EUVL：极紫外光刻

“极紫外光刻”（Extreme Ultra-Violet Lithography）常简称为EUVL，以方便书写和日常使用。该术语常见于电子科技、半导体制造等学术与工程领域，是一种应用于高精度芯片制造的关键技术，利用极紫外光在晶圆上进行微细图案的光刻处理。

Extreme Ultra-Violet Lithography具体释义

  • 英文缩写：EUVL
  • 英语全称：Extreme Ultra-Violet Lithography
  • 中文意思：极紫外光刻
  • 中文拼音：jí zǐ wài guāng kè
  • 相关领域： euvl 电子

Extreme Ultra-Violet Lithography的英文发音

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