RIBE：反应离子束刻蚀

反应离子束刻蚀（Reaction Ion Beam Etching，简称RIBE）是一种广泛应用于微电子和材料科学领域的精密加工技术。该术语在学术文献和工程实践中常被缩写成RIBE，以简化书写与交流过程，其核心原理是利用高能离子束与反应气体结合，实现对材料表面的高精度刻蚀。

Reaction Ion Beam Etching具体释义

  • 英文缩写：RIBE
  • 英语全称：Reaction Ion Beam Etching
  • 中文意思：反应离子束刻蚀
  • 中文拼音：fǎn yìng lí zǐ shù kè shí
  • 相关领域： ribe 电子

Reaction Ion Beam Etching的英文发音

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