IL：干涉光刻

干涉光刻（Interference Lithography，简称IL）是一种重要的微纳加工技术，其名称在学术文献与工程应用中常缩写为IL，以方便书写和快速交流。该技术利用多束光的干涉效应在光刻胶上形成周期性纳米结构，广泛应用于光学元件制造、光子晶体研究和半导体工艺等综合科技领域，具有高分辨率、无需掩模等优点。

Interference Lithography具体释义

  • 英文缩写：IL
  • 英语全称：Interference Lithography
  • 中文意思：干涉光刻
  • 中文拼音：gān shè guāng kè
  • 相关领域： il 未分类的

Interference Lithography的英文发音

例句

  1. Optical head supporting sub wavelength structure with UV interference lithography
  2. 支持亚波长结构光刻的紫外干涉光学头
  3. The fabrication methods of MPC include electron beam lithography with subsequent evaporation and lift-off, interference lithography with dry-etching technology etc.
  4. 制备金属光子晶体方法包括：电子束刻蚀结合后续剥离法、激光干涉光刻(IL)结合干刻蚀技术等。
  5. The limiting feature sizes of laser interference lithography were investigated by changing the variable of energy density.
  6. 最后在单一改变能量密度变量的条件下，对激光干涉光刻(IL)的极限尺度进行了研究。
  7. The results show that the method is effective and antinoise in measuring the laser interference lithography patterns.
  8. 测量结果证明，对于激光干涉条纹图，该方法是一种有效的测量方法并且具有较高的抗噪声性能。
  9. The results will be useful for the design and alignment of laser interference systems to obtain the desired patterns, in particular for laser interference lithography applications.
  10. 研究结果将有利于获得理想图形所需干涉系统的设计和校准，尤其在激光干涉光刻(IL)方面的应用。

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