IBAE：离子束辅助刻蚀

在电子等学术科研领域中，“Ion Beam Assisted Etching”常被缩写为IBAE，以便于快速书写与日常使用。该术语的中文全称为“离子束辅助刻蚀”，是一种常用于微纳加工和半导体制造的材料表面精细处理技术。

Ion Beam Assisted Etching具体释义

  • 英文缩写：IBAE
  • 英语全称：Ion Beam Assisted Etching
  • 中文意思：离子束辅助刻蚀
  • 中文拼音：lí zǐ shù fǔ zhù kè shí
  • 相关领域： ibae 电子

Ion Beam Assisted Etching的英文发音

本站英语缩略词为个人收集整理，可供非商业用途的复制、使用及分享，但严禁任何形式的采集或批量盗用

若IBAE词条信息存在错误、不当之处或涉及侵权，请及时联系我们处理：675289112@qq.com。