EUVL：极紫外光刻

极紫外光刻（Extreme Ultra-Violet Lithography，简称EUVL）是一种采用极短波长的紫外光进行微细加工的光刻技术，在半导体制造、纳米科技等领域具有关键应用。该缩写形式EUVL便于书写和交流，尤其在美国政府相关文件及科研机构中广泛使用，有助于提升专业文献和报告的表述效率。

Extreme Ultra- Violet Lithography具体释义

  • 英文缩写：EUVL
  • 英语全称：Extreme Ultra- Violet Lithography
  • 中文意思：极紫外光刻
  • 中文拼音：jí zǐ wài guāng kè
  • 相关领域： euvl 美国政府

Extreme Ultra- Violet Lithography的英文发音

例句

  1. Wafer stage is a key subsystem in the extreme ultra violet lithography ( EUV ).
  2. 工件台系统是极紫外光刻(EUVL)（EUV）的一个关键子系统。

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