EBL：电子束光刻

电子束光刻（Electron Beam Lithography，常缩写为EBL）是一种高精度的微纳加工技术，广泛应用于半导体制造、纳米技术和材料科学等领域。该缩写形式便于书写和交流，尤其在学术文献和技术文档中高频使用，用以简化表达并提升沟通效率。

Electron Beam Lithography具体释义

  • 英文缩写：EBL
  • 英语全称：Electron Beam Lithography
  • 中文意思：电子束光刻
  • 中文拼音：diàn zǐ shù guāng kè
  • 相关领域： ebl 未分类的

Electron Beam Lithography的英文发音

例句

  1. This paper introduces the development of electron beam lithography around the world and basic fundamentals of pattern generator.
  2. 论文分析了国内外电子束曝光技术的发展和图形发生器的工作原理。
  3. A novel process combining the self-assembly technique with electron beam lithography and selective chemical deposition was proposed for patterned film preparation.
  4. 本文提出了一种新颖的结合自组装技术和电子束直写曝光以及选择性化学沉积制备图案化薄膜方法。
  5. The composition, principle and working procedure of the application software of EBES-40A electron beam Lithography system are introduced.
  6. 本文简要地介绍了一种圆形电子束曝光机应用软件的结构、工作原理及工作过程；
  7. Furthermore, the parameters acquired by this method are successfully used for proximity effect correction in electron beam lithography on the same experimental conditions.
  8. 此外，用此方法提取的电子散射参数被成功地用于相同实验条件下的电子束临近效应校正。
  9. Raster scan electron beam lithography
  10. 光栅扫描电子束光刻(EBL)

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