RSD：反应溅射沉积

“反应溅射沉积”（Reactive Sputter Deposition，常缩写为RSD）是一种常见于材料科学、化学和工程领域的薄膜制备技术。该术语在学术及专业文献中频繁使用，缩写形式RSD有助于简化书写与交流。该技术通过在反应气体氛围中进行溅射，实现对材料表面的精确镀膜，广泛应用于半导体、光学涂层及功能材料的研究与生产中。

Reactive Sputter Deposition具体释义

  • 英文缩写：RSD
  • 英语全称：Reactive Sputter Deposition
  • 中文意思：反应溅射沉积
  • 中文拼音：fǎn yìng jiàn shè chén jī
  • 相关领域： rsd 化学

Reactive Sputter Deposition的英文发音

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