CAWC:低温气溶胶晶片清洗
“Cryogenic Aerosol Wafer Cleaning”在学术和电子科技领域常简称为CAWC,这一缩写有助于提升书写和沟通效率。该术语的中文译名为“低温气溶胶晶片清洗”,是一种在低温条件下利用气溶胶技术清洁半导体晶片的先进工艺,广泛应用于微电子制造中,能够有效提升晶片表面的洁净度和器件性能。
Cryogenic Aerosol Wafer Cleaning具体释义
Cryogenic Aerosol Wafer Cleaning的英文发音
本站英语缩略词为个人收集整理,可供非商业用途的复制、使用及分享,但严禁任何形式的采集或批量盗用
若CAWC词条信息存在错误、不当之处或涉及侵权,请及时联系我们处理:675289112@qq.com。