II:离子植入物(也称为I2)
在学术研究及电子科技领域,“离子植入(Ion Implant,亦写作I2)”是一个常见术语。为便于书写与表达,该词常被简称为“II”。离子植入技术广泛应用于半导体制造与材料科学中,通过注入离子改变材料表面的电学或物理性质,是实现微电子器件性能调控的关键工艺之一。
Ion Implant (also seen as I2)具体释义
Ion Implant (also seen as I2)的英文发音
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