APCVD：大气压力化学气相沉积
在大气压力环境下进行的化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）技术，常被简称为APCVD。该简称便于学术写作与技术交流中使用，尤其在化学、材料科学等专业领域广泛应用。其对应的中文全称为“大气压力化学气相沉积”，是一种重要的材料表面处理与薄膜制备工艺。
Atmosphere Pressure Chemical Vapor Deposition具体释义
Atmosphere Pressure Chemical Vapor Deposition的英文发音
例句
- Silicon films have been prepared with silane ( SiH_4 ) as the source gas by atmosphere pressure chemical vapor deposition ( APCVD ) on moving glass substrates under the conditions simulating technical process on float glass production line.
- 模拟浮法在线镀膜玻璃生产工艺，采用常压化学气相沉积（APCVD）技术以硅烷（SiH4）为主要原料气体在移动的玻璃基板上制备硅薄膜。
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