MD-MOS:多漏金属氧化物半导体
“多漏金属氧化物半导体”(Multi-Drain Metal-Oxide Semiconductor)在学术和电子工程领域常被缩写为MD-MOS,这一简称有助于简化书写和提高交流效率。该术语主要用于描述具有多个漏极结构的MOS器件,常见于集成电路设计与半导体技术研究中。
Multi-Drain Metal-Oxide Semiconductor具体释义
Multi-Drain Metal-Oxide Semiconductor的英文发音
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