RSE：反应溅射蚀刻

“反应溅射蚀刻”（Reactive Sputter Etch，简称RSE）是电子与材料科学领域中的一项重要工艺技术，广泛应用于半导体制造、薄膜沉积和微加工过程。该技术通过引入反应性气体在溅射过程中实现对基材的精确刻蚀，具有高控制性和优良的刻蚀效果。为便于书写和交流，专业文献中常使用其英文缩写RSE。这一工艺在微电子器件制备与表面工程中发挥着关键作用。

Reactive Sputter Etch具体释义

  • 英文缩写：RSE
  • 英语全称：Reactive Sputter Etch
  • 中文意思：反应溅射蚀刻
  • 中文拼音：fǎn yìng jiàn shè shí kè
  • 相关领域： rse 电子

Reactive Sputter Etch的英文发音

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